Objectiu de polvorització giratòria d'alta puresa
Introducció IKS s'especialitza en la producció d'objectius de polvorització giratòria d'alta puresa amb l'estabilitat i el rendiment òptims de processos per a aplicacions en sistemes de semiconductors, deposició de vapor físic (PVD) i indústria òptica. Els nostres objectius s'ofereixen en els seus requisits específics amb ...
- Introducció al producte
Introducció
IKS s'especialitza en la producció d'objectius de polvorització giratòria d'alta puresa amb l'estabilitat i el rendiment òptims del procés per a aplicacions en sistemes de semiconductors, deposició de vapor físic (PVD) i indústria òptica. Els nostres objectius s'ofereixen en els seus requisits específics amb la puresa mínima del 99,5% fins al 99,99% per a elements i aliatges purs.
L'adopció de la tecnologia avançada de premsat isostàtic calent (HIP) i de fusió al buit, els objectius rotatius d'espurneig de IKS es caracteritzen per una alta puresa, alta densitat, composició homogènia, grandària fina i llarga vida útil. Controlem cada pas (des de les matèries primeres fins als productes acabats) per assegurar-nos que només es poden enviar objectius d'alta qualitat a les nostres fàbriques.
IKS fabrica totes les mides d'objectius rotatius d'alta qualitat. Feu-nos saber el material i les dimensions que necessiteu i complirem el vostre requisit especial.
Productes Principals:
Material | Símbol | Relació atòmica | Puresa | Densitat relativa | Tecnologia | Avantatge |
Chromium | Cr | _____ | 99,5% ~ 99,95% | > 99% | Presió isostàtica calenta (HIP) | Bona resistència a l'oxidació |
Tungstè | W | _____ | 99,5% ~ 99,95% | > 99% | Presió isostàtica calenta (HIP) | Alta duresa |
Titani | Ti | _____ | 99,9% ~ 99,99% | > 99% | Fusió al buit | Bona resistència al desgast |
Níquel | Ni | _____ | 99,9% ~ 99,99% | > 99% | Fusió al buit | Gran resistència a la corrosió |
Molibdè | Mo | _____ | 99,9% ~ 99,99% | > 99% | Fusió al buit | Gran resistència a la corrosió |
Silici | Si | _____ | 99,99% | > 99% | Fusió al buit | Alta duresa |
Plata | Ag | _____ | 99,9% ~ 99,99% | > 99% | Fusió al buit | Bona conductivitat elèctrica i tèrmica |
Tàntal | Ta | _____ | 99,9% ~ 99,99 % | > 99% | Fusió al buit | Alta ductilitat |
Coure | Cu | _____ | 99,9% ~ 99,99% | > 99% | Vac fusió | Alta ductilitat, bona conductivitat tèrmica i resistència a la corrosió |
Grafit | _____ | 99,9% ~ 99,99% | > 99% | Fusió al buit | Alta duresa | |
Alumini | Al | _____ | 99,9% ~ 99,99% | > 99% | Fusió al buit | Bona Ductilitat, Conductivitat Tèrmica i Resistència a la Corrosió |
Silicon-Alumini | SiAl | 25/75 30/70 40/60 50/50 | 99,9% ~ 99,99% | > 99% | Presió isostàtica calenta (HIP) | Alta ductilitat i bona resistència al desgast |
Titani-alumini | TiAl | 30/70 33/67 40/60 45/55 50/50 60/40 70/30 75/25 80/20 | > 99,7% (2N7) | > 99% | Presió isostàtica calenta (HIP) | Elevada força mecànica i bona resistència a la corrosió |
Crom-alumini | CrAl | 25/75 30/70 40/60 50/50 | > 99,7% (2N7) | > 99% | Presió isostàtica calenta (HIP) | Bona resistència a l'oxidació i resistència a la corrosió |
Titani-alumini-silici | TiAlSi | 30/60/10 40/50/10 | > 99,7% (2N7) | > 99% | Presió isostàtica calenta (HIP) | Alta duresa i ductilitat |
Crom-alumini-silici | CrAlSi | 30/60/10 40/50/10 | > 99,7% (2N7) | > 99% | Presió isostàtica calenta (HIP) | Bona resistència a l'oxidació i resistència a la corrosió |
Més informació:
Certificació: ISO9001
Mida mitjana del gra: 30-40μm (la norma nacional és de 100μm)
Dimensions d'accions: OD70xID56xL / OD100xID80xL (durada il·limitada)
Hi ha altres especificacions especials disponibles a petició del client.
Anàlisi de qualitat del target TiAlSi Sputtering
(Agafeu TiAlSi 30/60/10 a% com a mostra)
Component principal (% wt) | Contingut d'impureses (%) | |||||
TiAlSi | C | N | O | H | Fe | Ca |
> 99.7 | 0,0120 | 0.0007 | 0.1995 | 0.0110 | 0.0620 | 0.0048 |
Ti | Al | Si | ||||
7,9% | 48,86% | 43,24% | ||||
Densitat real: 3,42 (g / cm3)
Densitat teòrica:> 99%
La grandària mitjana del gra de la nostra meta rotativa és de 30-40 μm, que està molt per sota de la norma nacional (100 μm).
En comparació amb els objectius planars, els nostres objectius rotatius de polvorització poden:
● Reduïu el cost de propietat per a operacions de revestiment d'àrea gran.
● Proporcioneu zones d'erosió més grans que proporcionen 2 a 2,5 vegades la utilització del material.
● Tingueu una vida útil més llarga que, al seu torn, es tradueixi en execucions de producció molt més llargues i redueix el temps d'inactivitat del sistema.
● Augmentar el rendiment dels equips de recobriment.
● Permet l'ús de majors densitats de potència i, com a conseqüència, es pot veure una major velocitat de deposició juntament amb un rendiment millorat durant la polvorització reactiva.
Sol·licitud:
Avui en dia, la tecnologia d'objectiu rotativa s'ha utilitzat àmpliament en la fabricació de revestiments de grans superfícies de vidre arquitectònic, pantalles planes, revestiment solar fotovoltaic i decoratiu. Els nostres objectius rotatius són molt compatibles amb la pel·lícula decorativa que garanteix la resistència a les ratllades i els acabats acolorits decoratius de revestiment dur en telèfons mòbils, joies, rellotges, ulleres, decoració automotriu, electrodomèstics, articles sanitaris, maquinari, etc.
Embalatge: 1. Caixa de fusta
2. Carton
3. Com a sol·licitud
Pagament: T / T, L / C, etc.
Temps de lliurament: Normalment, 20 ~ 30 dies després del pagament
Enviament: aeri o marítim
Etiquetes populars: objectiu de polvorització giratòria d'alta puresa, Xina, fabricants, proveïdors, compra, personalitzats, fabricats a la Xina
