Breu introducció de la tecnologia HIPIMS

La tecnologia de polvorització de magnetó s'utilitza àmpliament en el camp del camp de recobriment. S'utilitza comunament tant per aplicacions de recobriment decoratiu com per a aplicacions de recobriment d'eines. Però encara hi ha moltes limitacions de la tecnologia de pulverización de magnetrons. Per exemple, la densitat de potència dels blancs de polvorització de magnetrons es veu afectada per la càrrega tèrmica diana. Sota un gran corrent de polvorització, els ions positius excessius bombardegen l'objectiu, el que pot provocar que el blanc de l'encenall s'escalfi i es crema, a més, l'energia de l'encenall és limitada i la velocitat de ionització del metall no és alta.

En els últims anys, s'ha desenvolupat una tecnologia de polvorització magnètica d'impulsos d'alta potència (HiPIMS) a casa ia l'estranger, que debilita molt aquesta limitació. La potència màxima de HiPIMS és aproximadament 100 vegades superior a la de l'espurneig normal del magnetró i el material de polvorització té una velocitat d'ionització molt alta, a més, aquest raig altament ionitzat no conté grans partícules, per la qual cosa HiPIMS pot obtenir fàcilment una capa de film d'alta qualitat .

Atès que el temps d'acció del pols es troba a uns pocs centenars de microsegons, la potència mitjana de HiPIMS és equivalent a la de l'espurneig normal del magnetó, de manera que no s'incrementa el requisit de refredament de l'objectiu del magnetrón. Tot i que la potència instantània d'un polsador magnètic d'alta potència és molt alta, la seva potència mitjana no és massa gran, de manera que es pot promoure àmpliament.