Característiques del recobriment de la màquina de buidatge amb ions

En comparació amb la màquina de recobriment d'evaporació i la capa de recobriment de pols, la màquina de recobriment de ionització es caracteritza pel fet que els ions carregats bombardegen el substrat i la capa de film mentre es dipositen. La sèrie d'efectes produïts pel bombardeig iònic energètic té els següents punts principals:

1. La força d'unió de la pel·lícula / base (adherència) és forta i la capa de film no cau fàcilment. A causa de l'efecte de polvorització del bombardeig iònic en el substrat, el substrat es neteja, s'activa i s'escalfa, que pot eliminar la capa d'adsorció de gas i contaminació a la superfície dels substrats i l'òxid a la superfície del substrat també pot ser eliminat. La calefacció i els defectes causats pel bombardeig iònic poden millorar l'efecte de difusió del substrat. No només millora les propietats de microestructura i cristal·lització de la capa superficial del substrat, sinó que també proporciona les condicions per a la formació d'aliatges. A més, un bombardeig amb ions d'energia més alta també pot produir certa implantació iònica i efectes de mescla de raigs iònics.

2. Les màquines de recobriment d'ions tenen bones propietats de difracció. En el revestiment de la llum, els ions o molècules de vapor ionitzat vaporitzat a alta pressió (≥1Pa) trobaran múltiples col·lisions de molècules de gas en el camí cap al substrat. Per tant, les partícules de la pel·lícula es poden escampar al voltant del substrat. Això millora la cobertura de la pel·lícula. D'altra banda, els ions de membranes ionitzats d'un revestiment d'ions multi-arc també es poden dipositar per la central elèctrica en qualsevol posició de la superfície d'un substrat de tensió negativa. Per tant, aquest punt de placa d'evaporació no es pot aconseguir.

3. La qualitat del revestiment és alta. Com que el bombardeig iònic pot augmentar la densitat de la pel·lícula, la màquina de recobriment de polsadors pot millorar l'estructura de la pel·lícula, la qual cosa fa que la pel·lícula sigui uniforme, la microestructura del recobriment sigui compacta i menys forats i bombolles. Per tant, la qualitat de la capa de pel·lícula es millora.

4. La velocitat de deposició és alta i la velocitat de formació del film és ràpida, i es pot preparar la pel·lícula gruixuda de 30 μm.

5. El material del substrat i el material de recobriment aplicat al recobriment són relativament extensos. És adequat per al recobriment de materials metàl·lics, compostos i no metàl·lics sobre superfícies metàl·liques o no metàl.liques, com l'acer, metalls no ferrosos, quars, ceràmica, plàstics i altres materials. A causa de que l'activitat plasmàtica és beneficiosa per reduir la temperatura de síntesi del compost, la màquina de recobriment d'ions multiàcrates pot, per tant, plascar fàcilment amb diverses pel·lícules de compost dur per ionització.

A causa de les característiques anteriors, la màquina de plasó ió té una àmplia gamma d'aplicacions. La tecnologia de ionització es pot utilitzar per recobrir metalls, aliatges, materials conductors i fins i tot materials no conductors. La pel·lícula dipositada per una màquina de recobriment múltiple pot ser una pel·lícula metàl·lica, una pel·lícula de múltiples aliatges i una pel·lícula composta, que es pot recórrer amb un sol recobriment o un recobriment compost, i també es pot recobrir amb un recobriment de gradient i un nano recobriment multicapa. Amb diferents materials de membrana, diferents gasos de reacció i diferents mètodes i paràmetres de procés, és possible obtenir un recobriment resistent al desgast, resistent a la superfície, un revestiment resistent a la corrosió compacte i químicament estable, una capa de lubricació sòlida i diversos recobriments decoratius de color i especials revestiments funcionals per a electrònica, òptica i ciències de l'energia, etc. La tecnologia de la placa iònica i els productes de recobriment d'ions han estat àmpliament aplicats.