deposició química de vapor (CVD)
Nov 08, 2022| deposició química de vapor (CVD)
La deposició química en vapor (CVD) és un procés que genera dipòsits sòlids mitjançant la reacció de substàncies en estat gasós o de vapor a la interfície en fase gasosa o gas-sòlid. La deposició química de vapor (CVD) és una nova tecnologia desenvolupada en les últimes dècades per preparar materials inorgànics. La deposició química de vapor s'ha utilitzat àmpliament per purificar substàncies, preparar nous cristalls i dipositar diversos materials de pel·lícula inorgànica monocristal·lina, policristalina o vidriada. Aquests materials poden ser òxids, sulfurs, nitrurs, carburs o compostos interelementals binaris o sagrats dels grups III-V, II-IV, IV-VI, i les seves funcions físiques es poden controlar amb precisió mitjançant processos de deposició dopat amb gas.
El procés de deposició de vapor químic es divideix en tres etapes importants: la difusió del gas reactiu a la superfície de la matriu, l'adsorció del gas reactiu a la superfície de la matriu, la formació de sediment sòlid per reacció química a la superfície de la matriu i la separació de subproductes gasosos de la superfície de la matriu. Les reaccions químiques de deposició de vapor més habituals són les reaccions de descomposició tèrmica, les reaccions de síntesi química i les reaccions de transport químic.
Empresa IKS PVD, màquina de recobriment decoratiu, màquina de recobriment d'eines, màquina de recobriment DLC, màquina de recobriment òptic, línia de recobriment al buit PVD, el projecte clau en mà està disponible. Contacta amb nosaltres ara, correu electrònic:iks.pvd@foxmail.com