Deposició millorada per feix d'ions (IBED)

La deposició millorada per feix d'ions (IBED) és una nova tecnologia de modificació de superfícies que combina la implantació d'ions amb la deposició de pel·lícula fina. Es refereix a la formació d'una capa de pel·lícula elemental o composta mitjançant la barreja de bombardeig del feix d'ions amb certa energia al mateix temps que el recobriment de deposició de vapor. A més de conservar els avantatges de la implantació d'ions, també pot fer créixer contínuament qualsevol pel·lícula de gruix amb baixa energia de bombardeig i pot sintetitzar pel·lícula composta amb la proporció química ideal a temperatura ambient o prop (inclosa la nova pel·lícula que no es pot obtenir a temperatura ambient). i pressió). La tecnologia té els avantatges de la baixa temperatura de procés (< 200℃), a strong binding force for all substrates, a high-temperature phase, metastable phase, an amorphous alloy can be obtained at room temperature, easy control of the chemical composition, easy to-control of the growth process and so on. The main disadvantage is that the ion beam is direct, so it is difficult to deal with the complex shape of the surface.

Empresa IKS PVD, màquina de recobriment decoratiu, màquina de recobriment d'eines, màquina de recobriment DLC, màquina de recobriment òptic, línia de recobriment al buit PVD, el projecte clau en mà està disponible. Contacta amb nosaltres ara, correu electrònic:iks.pvd@foxmail.com