Revestiment d'ions
Dec 27, 2017| El plating iònic (IP) és un procés de deposició de vapor físic (PVD) que de vegades s'anomena dipòsit assistit per ions (IAD) o dipòsit de vapor iònic (IVD) i és una versió de deposició de buit. El plating iònic utilitza bombardeig simultani o periòdic del substrat, i diposita pel·lícules per partícules energètiques de grandària atòmica. El bombardeig abans de la deposició s'utilitza per polvoritzar la superfície del substrat. Durant la deposició, el bombardeig s'utilitza per modificar i controlar les propietats de la pel·lícula de dipòsit. És important que el bombardeig sigui continu entre la neteja i les parts de deposició del procés per mantenir una interfície atòmicament neta.
En el plating iònic, l'energia, el flux i la massa de les espècies bombardejants, juntament amb la proporció de partícules bombardejants a les partícules de dipòsit, són variables de processament importants. El material de dipòsit es pot vaporitzar bé per evaporació, polvorització (polvorització de polvorització), vaporització d'arc o per descomposició d'un dipòsit químic precursor de vapor químic (CVD). Les partícules energètiques utilitzades per al bombardeig solen ser ions d'un gas inert o reactiu, o, en alguns casos, ions del material de film de condensació ("ions de pel·lícula"). El plasmat d'ions es pot fer en un entorn de plasma on s'obtenen ions de bombardeig del plasma o es pot fer en un ambient de buit on es formen ions de bombardeig en una pistola de ions separada. Aquesta última configuració de la placa iònica es denomina sovint Dipòsit Assistit per Ion Beam (IBAD). Mitjançant l'ús d'un gas o vapor reactiu al plasma, es poden dipositar pel·lícules de materials compostos.
El plating iònic s'utilitza per dipositar recobriments durs de materials compostos sobre eines, recobriments metàl·lics adherents, recobriments òptics amb altes densitats i recobriments conformants sobre superfícies complexes.
El procés de placa iònica va ser descrit per primera vegada en la literatura tècnica de Donald M. Mattox de Sandia National Laboratories (SNL) el 1964. [1]
