Sputtering amb magnetrons de freqüència mediada (MF).

Sputtering amb magnetrons de freqüència mediada (MF).
La pulverització de magnetrons d'AC es pot utilitzar en un sistema d'objectiu de càtode únic, i els sistemes de pulverització de diana doble s'utilitzen generalment a la indústria.
La taxa d'utilització màxima del material objectiu pot arribar a més del 70 per cent, el material objectiu té una vida útil més llarga, una taxa de polverització més ràpida, elimina el fenomen d'enverinament del material objectiu.

Empresa IKS PVD, màquina de recobriment decoratiu, màquina de recobriment d'eines, màquina de recobriment DLC, màquina de recobriment òptic, línia de recobriment al buit PVD, el projecte clau en mà està disponible. Contacta amb nosaltres ara, correu electrònic: iks.pvd@foxmail.com