Nou recobriment de nanòmetres i els seus equips

Nou recobriment de nanòmetres i el seu equipament

Entre els recobriments d'eines d'alt rendiment, la quota de mercat dels recobriments (ti, al) n és del 25% ~ 55%. Això es deu a les excel·lents propietats del recobriment (ti, al) n, incloent alta duresa (25 ~ 38 gpa) i baixa tensió interna (-3 ~ 5 gpa), i la duresa només disminueix en un 30% ~ 40% a 800 ℃ . A més, la taxa d’oxidació era d’uns 15 ~ 20 micres / cm a 800 ℃ , la qual cosa era equivalent a la taxa d’oxidació del revestiment ticn a 400 ℃ o recobriment de llauna a 550 ℃ . Finalment, el recobriment té una baixa conductivitat tèrmica, amb una capacitat de transferència de calor del 30% menor que els recobriments d’estany.

Actualment, la indústria del recobriment continua fent molta feina per millorar encara més les excel·lents propietats del recobriment (ti, al) n, com ara:

La tecnologia multi-arc i la tecnologia de sputtering es combinen. Filtreu la gota gran produïda en el procés de múltiples arcs; Optimitzeu els paràmetres del procés (com ara el flux d'arc, el biaix, la pressió parcial de n2, etc.); Optimitzeu l'estructura de revestiment (per exemple, eviteu una estructura de columna per millorar la resistència a la corrosió); Desenvolupa recobriments multicapa per millorar la duresa i el gruix; Afegiu altres elements d'aliatge com el crom, l'itri (augmentant encara més la capacitat d'oxidació), el zirconi, el vanadi, el bor, l'hafni (major resistència) i el silici (augmentant la duresa i l'estabilitat química). Les tasques principals d’aquests revestiments d’optimització (ti, al) n són desenvolupar revestiments nano-multicapa i millorar el contingut de al.

Desenvolupar revestiments multicapa i millorar el contingut de recobriments

El revestiment nano-multicapa es pot aconseguir refinant els processos de revestiment multicapa existents. A la capa de nanòmetres multicapa formada pel revestiment alternatiu de la capa tincrn i la capa aln, la influència de la distància entre les capes (període altern) a la duresa es mostra a mesura que la duresa augmenta amb la disminució del període. La raó és que els materials que componen la multicapa tenen diferents mòduls elàstics. Quan l'espaiat es torna més petit, la duresa torna a disminuir, ja que la interfície entre les capes no és clara. Si la interfície és clara, la duresa no disminuirà. Pel que fa a l’estructura del recobriment, s’ha assenyalat que l’aln té una estructura hexagonal quan l’espai entre capes és superior a 10 nm i una estructura cúbica quan l’espai entre capes és inferior a 10 nm.

Recobert amb nano recobriment ha de ser el control del càtode objectiu i artefactes (eina) de rotació per realitzar sincronització precisa, per tant, és adequat per a processament per lots del mateix tipus de parts, si el processament és diferent mida de la peça, la distància de la capa canviarà, una capa del tu té canvis de les eines recobertes nano, la seva durabilitat disminuirà a causa del canvi de temperatura de tall. El cost del recobriment és alt per aplicar un espaiat constant a diferents parts en un sol forn.

Al mateix temps, les famoses empreses de recobriment del món estan estudiant per millorar (ti, al) n el contingut del recobriment, el propòsit és millorar la duresa (principalment duresa a alta temperatura), resistència al desgast, resistència a l'oxidació, per millorar el rendiment de tall del eina. Per tal de distingir del teixit de recobriment habitual, el recobriment que conté més del 50% de contingut es denomina actualment altin. Per tant, estan disponibles recobriments que contenen el 67%, el 75% o fins i tot el 80% del contingut al, però el contingut al és limitat i, més enllà d'aquest límit, les propietats del recobriment es deterioraran. S'ha demostrat que és difícil millorar el contingut d’alumini efectiu i mantenir el mateix espai al mateix temps. Com a resultat, els avenços només es poden fer amb nous principis i els recobriments de nanocompostos que es descriuen a continuació faran exactament això

Recobriment anocompositiu N

Mitjançant el dipòsit de diversos materials amb propietats molt diferents (com ara ti, al, si) al mateix temps, i els components del teixit format no es descomponen completament, es formarà una estructura de dues fases: grans de nanometres incrustats en la matriu si3n4 amorfa, formant una estructura de niu d'abella, el límit dels quals pot bloquejar la major extensió de les esquerdes. A més de la seva alta duresa, aquest recobriment té una excel·lent resistència a la calor i es pot mantenir fins a 1100 ℃ , la qual cosa el fa ideal per a un tall eficient i sec. A més, les propietats dels recobriments nanocompostos són millors quan es combinen amb nanoestructures multicapa. L'espai entre capes del revestiment multicapa és de 35. Aquesta estructura de recobriment només es pot aconseguir quan els càtodes de dispositius multi-arc són molt propers els uns dels altres.

IKS PVD ， subministrament de solucions tècniques de recobriment de buit PVD ： contacte : iks.pvd@foxmail.com