Procés PECVD

La deposició de vapor químic millorat per plasma (PECVD) és una mena de deposició química de vapor, i la seva baixa temperatura de deposició és el seu avantatge més destacat. Les pel·lícules dipositades amb PECVD tenen excel·lents propietats elèctriques, una bona adhesió al substrat i una excel·lent cobertura de pas, que les fan molt utilitzades en VLSI, dispositius optoelectrònics, MEMS i altres camps.

Empresa IKS PVD, màquina de recobriment decoratiu, màquina de recobriment d'eines, màquina de recobriment DLC, màquina de recobriment òptic, línia de recobriment al buit PVD, el projecte clau en mà està disponible. Contacta amb nosaltres ara, correu electrònic: iks.pvd@foxmail.com