El principi bàsic de la pulverització de magnetrons

El principi bàsic de la catòfora de magnetrons

La polverització de magnetrons és l'ús del camp magnètic per unir el moviment dels electrons, millorar la taxa d'ionització dels electrons. En comparació amb la catòfora tradicional, té dues característiques principals: "baixa temperatura (augmentant el nombre de col·lisions, l'energia dels electrons disminueix gradualment i només cau a l'ànode després d'esgotar l'energia)" i "alta velocitat (augmentant el camí). del moviment d'electrons, millorant la velocitat d'ionització, ionitzant més ions bombardejant l'objectiu)".
El principi bàsic d'augmentar la velocitat de sputtering mitjançant camps magnètics va ser inventat per Penning fa més de 60 anys i més tard desenvolupat per Kay i altres, donant lloc al desenvolupament de pistoles de sputtering i fonts de camp magnètic cilíndric. Les estructures de magneto planar es van introduir a Chapin el 1979.

Empresa IKS PVD, màquina de recobriment decoratiu, màquina de recobriment d'eines, màquina de recobriment DLC, màquina de recobriment òptic, línia de recobriment al buit PVD, el projecte clau en mà està disponible. Contacta amb nosaltres ara, correu electrònic: iks.pvd@foxmail.com